步進(jìn)曝光(guāng)機是(shì)一(yī)種用(yòng)於光刻(kè)（半導體(tǐ)和液(yè)晶製造(zào)工(gōng)藝）的投射(shè)曝光(guāng)設(shè)備
。

隨著(zhuó)IC電(diàn)路圖(tú)案的小型(xíng)化，製作全尺寸光(guāng)掩(yǎn)模(mó)圖(tú)案變(biàn)得(dé)困難
。這是(shì)指在(zài)對大於(yú)實際尺寸(cùn)的掩(yǎn)模圖(tú)案進行(háng)縮(suō)小(xiǎo)投(tóu)影曝(pù)光時(shí)進行(háng)分(fēn)步重復曝(pù)光(guāng)的曝(pù)光設(shè)備(bèi)

步(bù)進機是一種曝光設(shè)備，通過(guò)執行步(bù)進和重(zhòng)復來曝(pù)光(guāng)整(zhěng)個待曝(pù)光(guāng)區(qū)域(yù)
。

步(bù)進機的使用

步進(jìn)機用(yòng)於(yú)半導(dǎo)體和液晶(jīng)的製造，特(tè)別是(shì)用(yòng)於(yú)光(guāng)刻過程(chéng)中使用(yòng)掩模(mó)的曝光處理
。

步進(jìn)法(fǎ)包括步進重復(fù)法和(hé)步進重(zhòng)復(fù)法，其(qí)中(zhōng)，由於(yú)一(yī)次可(kě)以(yǐ)轉移的麵(miàn)積(jī)較小(xiǎo)，因(yīn)此(cǐ)在步進(jìn)時將晶圓(yuán)順(shùn)序曝(pù)光(guāng)；以及步進重復(fù)法(fǎ)，其(qí)中稱為掃描(miáo)儀的標綫和(hé)存在一種(zhǒng)使用(yòng)步進(jìn)機進行曝(pù)光的(dí)類型，該類型(xíng)與(yǔ)步(bù)進機不同(tóng)，並且(qiě)可以將其(qí)視(shì)為(wéi)掃描儀(yí)
。