半(bàn)導(dǎo)體行(háng)業(yè)對水(shuǐ)平儀的(dí)精(jīng)度要(yào)求，按工序 / 設備分檔非常明(míng)確，核心(xīn)結(jié)論：

一，行(háng)業通用精度區(qū)間(jiān)（換算(suàn)對照）

角度精(jīng)度：±0.001°～±0.005°

綫(xiàn)值(zhí)精度(dù)（1m 內(nèi)）：±0.1 μm/m ～ ±5 μm/m（即 0.0001 mm/m ～ 0.005 mm/m）

粗(cū)略換(huàn)算(suàn)：0.001° ≈ 17.5 μm/m

二，各工(gōng)序(xù)典型要求(qiú)（從(cóng)高到低）

1）光(guāng)刻（EUV/DUV，最嚴(yán)）

水平(píng)精(jīng)度(dù)：±0.001°（≤17.5 μm/m）

重(zhòng)復精度(dù)：≤±0.0005°

場(cháng)景：晶圓台，光學平(píng)台(tái)，鏡頭(tóu)組(zǔ)基準(zhǔn)

原因：1° 傾斜≈焦平麵偏移數 μm，直(zhí)接(jiē)導致套(tào)刻 / 良率報廢(fèi)

2）刻(kè)蝕 / 沉積（PECVD，ALD，PVD）

水(shuǐ)平精度：±0.001°～±0.002°（17.5～35 μm/m）

場景(jǐng)：反(fǎn)應(yīng)腔(qiāng)，承載台，蒸發源基(jī)座

影(yǐng)響(xiǎng)：腔室(shì)不(bù)水平→等(děng)離(lí)子(zǐ) / 氣流分(fēn)布不均(jūn)→膜厚 / 刻(kè)蝕深(shēn)度(dù)不均

3）塗膠(jiāo) / 顯(xiǎn)影(yǐng)（Track）

水(shuǐ)平精(jīng)度(dù)：±0.002°～±0.005°（35～87 μm/m）

場景(jǐng)：大(dà)理(lǐ)石基台，旋塗平台

影響：膠(jiāo)厚不均→CD 不良，邊緣(yuán)缺(quē)陷

4）CMP，檢(jiǎn)測 / 量測(cè)（SEM，AFM，三(sān)坐(zuò)標）

水(shuǐ)平精度(dù)：±0.005°（≈87 μm/m）

場景(jǐng)：拋光(guāng)平(píng)台(tái)，檢測機基座(zuò)，光學(xué)平(píng)台

要求：長期(qī)穩(wěn)定(dìng)，抗振動(dòng)，溫度漂移(yí)小(xiǎo)

5）一(yī)般(bān)自(zì)動化(huà)設(shè)備(bèi)（固晶(jīng)，焊(hàn)綫，貼片機(jī)）

水平(píng)精度(dù)：±0.01°～±0.05°（0.175～0.87 mm/m）

三，為(wéi)什麼 SELN-001B 剛(gāng)好匹配(pèi)半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)

角度精(jīng)度：±0.001°（=17.5 μm/m），直接(jiē)覆(fù)蓋光(guāng)刻(kè) / 刻(kè)蝕(shí)最(zuì)嚴標準

分辨率：0.0002°，可捕捉(zhuō)微小(xiǎo)傾斜(xié)

零點(diǎn)重復性(xìng)：≤±0.001°，長期(qī)穩(wěn)定(dìng)

分(fēn)體式(shì)傳感器（φ50×19 mm）：可進(jìn)入腔室(shì) / 平台內(nèi)部(bù)狹小空間